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IC制造中对光刻技术的基本要求有哪些？

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发布时间：2023-01-24

更多“IC制造中对光刻技术的基本要求有哪些？”相关的问题

第1题

常规硅集成电路平面制造工艺中光刻工序包括的步骤有（）、（）、（）、（）、（）、（）、去胶等。

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第2题

特大规模集成电路（）对光刻的基本要求包括（）、（）、（）、（）、（）等五个方面。

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第3题

《蒸汽锅炉安全技术监察规程》对锅炉有哪些基本要求？

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第4题

X射线制版和直接电子束直写技术替代光刻技术有什么优缺点?

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第5题

在GCS中，对用户需求分析的基本要求有哪些？

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第6题

下面（）不属于制造过程中质量控制的基本要求。

A.工艺规范编制

B.技术文件控制

C.原材料质量控制

D.设备的质量控制

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第7题

在体外膜肺氧合（ECMO）技术临床应用管理规范中对医疗机构基本要求：医疗机构应具备卫生健康行政部门核准登记的与开展ECMO技术相适应的诊疗科目,设有重症医学科或重症监护病房,有（）名以上经过ECMO技术培训并考核合格的专业技术人员,其中至少（）名执业医师

A.5，2

B.3，2

C.2，3

D.3，5

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第8题

属于快周期市场的行业有哪些？（）

A.时尚消费

B.药品的品研发

C.汽车制造

D.互联网技术

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第9题

在体外膜肺氧合（ECMO）技术临床应用管理规范中，对医疗机构基本要求，医疗机构应具有开展（）的设备设施和能力

A.心功能衰竭D期心脏功能检测、连续心排量监测

B.磁共振血管造影（MRA）、CT血管造影（CTA）

C.X光、心电图检查设备

D.移动式多普勒超声心动诊断

E.连续性肾脏替代治疗（CRRT）

F.有创呼吸机治疗

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第10题

三维喷涂粘结快速成型工艺对粉末材料的基本要求有哪些?

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第11题

对继电保护装置有哪些基本要求？

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